（讯）7 月 6 日消息，根据 DigiTimes 报道， ASML 试图规避荷兰新销售许可禁令，面向中国市场推出特别版 DUV 光刻机。

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消息称如果该项目继续推进，中芯国际、华虹等中国半导体企业可以继续使用荷兰的设备生产 28 纳米及更成熟工艺的芯片。

图源 ASML

消息称 该特别版 DUV 光刻机基于 Twinscan NXT: 1980Di 光刻系统改造，而 1980Di 是 10 年前推出的旧型号，不在本次官方禁令范围内。

1980Di 是 ASML 现有效率比较低的光刻机，支持 NA 光学器件、分辨率可以达到 <38 nm，理论上可以支持 7nm 工艺。

大多数晶圆厂使用 1980Di 光刻机，主要生产 14nm 及以上工艺芯片，很少使用其生产 7nm 芯片。

据悉，最近，荷兰方面正式宣布了最新的决定， 要求企业出口先进设备前需要获得许可证，新规将在9月1日生效。

但荷兰政府的对于DUV光刻机的限制要求是需要 同时满足最小可分辨特征尺寸小于或等于45nm和DCO值小于或等于这两个条件， 因此，ASML的NXT1980系列（分辨率为38纳米左右，但DCO值是小于等于）依然可以不受荷兰新规限制，不需要许可就能够向中国出口。

ASML的声明也表示，根据荷兰新的出口管制条例规定，ASML TWINSCAN NXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统需要向荷兰政府申请出口许可证才能出口。而 目前有在售NXT1980系列则不受影响 。

这也就意味着，也就是说NXT1980系列本就符合美国及荷兰的新规， ASML根本没有必要考虑推出面向中国市场的“特供版”NXT 1980系列 。

而据证券时报报道，今日午后，ASML也向记者回应称： 一直以来ASML都遵守所适用的法律条例，公司并没有面向中国市场推出特别版的光刻机。

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